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日立分析儀器推出新一代高性能OES光譜儀
信息來源:日立分析 上傳日期:2019-12-06 點擊率:527次

日立分析儀器(Hitachi High-Tech Analytical Science)是日立高新技術公司(TSE8036)旗下的一家全資子公司,主要從事分析和測量儀器的制造和銷售。近日,日立分析儀器推出一款開創性的OE750型新型直讀光譜儀,用于鑄造廠和金屬生產中,要求嚴格的金屬規格分析。




由于復雜的供應鏈,以及作為基礎材料使用的廢舊金屬數量的增加,鑄造廠和金屬制造商在控制熔體中的雜質和痕量元素時,面臨著更多的壓力。新型OE750型直讀光譜儀具有較高的性能水平。它涵蓋金屬中所有元素的光譜,并實現對某些元素的最*低檢出限。因此,此款分析儀具備價格高昂的同類儀器所能提供的功能水平,可為眾多鑄造廠和金屬制造商提供優質分析。

OE750實現高分辨率和寬動態范圍要歸功于采用了先進CMOS探測器技術的革命性新光學理念。其中有四項專利正處于申請狀態。因此,這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍;這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當今嚴格的金屬規格分析至關重要,該分析儀可以滿足新的ASTM E415標準中關于碳鋼和低合金鋼的試驗方法的要求。

OE750是鋁鑄件的理想光譜儀,因為它可以測定亞共晶和過共晶鋁硅合金中含量極低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉,以及雜質和痕量元素,從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中,以優化結構改造。創新性光學設計能實現更短的啟動時間,因為光學系統的體積相對較小。這有助于那些需要在多點測量驗證熔體質量的工廠實現高批量生產。

除了新的光學設計之外,OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術特性。它有一個新的密封火花臺,具有優化層流設計,可降低氬氣消耗,降低污染的可能性,并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的獨特中壓系統可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%,并避免油氣污染,從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。

除創新性硬件技術外,新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如,它包括日立牌號數據庫,該數據庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準,減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。可選的爐料校正軟件會自動計算添加至熔體中的正確材料量,使其符合規范。

日立OES產品業務開發經理Wilhelm Sanders表示:“在過去,鑄造廠和金屬加工企業在購買儀器時,不得不在高分析性能和可接受價格范圍之間作出選擇。現在有了新型OE750,他們無需想出折中方案了。OE750能憑借一套可使用的解決方案提供全面的金屬分析。”

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